plasma等離子清洗機(jī)用什么氣體
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2025-03-05
plasma等離子清洗機(jī)可使用多種氣體來(lái)實(shí)現(xiàn)不同的清洗和處理效果，常用的氣體包括氧氣、氬氣、氮?dú)?、氫氣、四氟化碳及氨氣等，還有多種氣體的混合氣體。氧氣主要用于去除有機(jī)污染物和增加表面親水性；氬氣常用于物理清洗和防止氧化；氮?dú)饪杀苊饨饘俑邷匮趸⒛苷{(diào)節(jié)等離子體性質(zhì)；氫氣用于還原金屬表面氧化物；四氟化碳用于刻蝕硅基材料；氨氣可改善表面粗糙度和增加含氮基團(tuán)。混合氣體則可綜合多種氣體的優(yōu)勢(shì)，達(dá)到更好的處理效果。
plasma等離子清洗機(jī)常用的氣體有以下幾種：
氧氣（O?）：是一種具有強(qiáng)氧化性的反應(yīng)性氣體。主要用于去除材料表面的有機(jī)污染物，如油脂、蠟質(zhì)、碳?xì)浠衔锏?。其原理?b>氧等離子體中的高活性氧離子能與有機(jī)污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將其氧化分解為二氧化碳和水蒸氣等小分子氣體，從而實(shí)現(xiàn)清潔。同時(shí)，氧氣還能增強(qiáng)材料表面的親水性，使材料表面形成更多的活性基團(tuán)，提高涂層、粘接等后續(xù)工藝的附著力，適用于高分子材料的表面活化，但不適合易氧化的金屬表面。
氬氣（Ar）：屬于惰性氣體，是常用的非反應(yīng)性氣體。主要通過(guò)物理轟擊作用清除表面顆粒物，氬氣電離產(chǎn)生的氬離子不會(huì)與基底材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在表面清洗時(shí)不會(huì)造成精密電子器件表面氧化，因此特別適合用于敏感元件的清洗，如在半導(dǎo)體行業(yè)中，常被用來(lái)去除材料表面的微小塵埃，也可用于使基片表面粗糙化。
氮?dú)猓∟?）：具有良好的熱穩(wěn)定性和化學(xué)惰性，能有效避免某些金屬材料在高溫下發(fā)生氧化?？蓡为?dú)使用，也常與其他活性氣體混合使用，以調(diào)節(jié)等離子體的性質(zhì)，進(jìn)而滿足不同的處理需求。例如在一些對(duì)金屬材料進(jìn)行處理的場(chǎng)景中，使用氮?dú)獾入x子體可以改善金屬材料的硬度和耐磨性。
氫氣（H?）：是一種具有還原性的氣體，主要用于去除金屬表面的氧化物。通常與氬氣等其他氣體混合使用，以提高清洗效率和效果，降低使用純氫氣的風(fēng)險(xiǎn)。氫氣與被清洗件表面的金屬氧化物發(fā)生還原反應(yīng)，生成水等產(chǎn)物，從而達(dá)到清潔金屬表面的目的。
四氟化碳（CF?）：是一種含氟氣體，屬于反應(yīng)性氣體。主要用于刻蝕硅基材料，通過(guò)引入氟自由基，能夠在不損傷基底的情況下實(shí)現(xiàn)精密加工，在半導(dǎo)體制造等對(duì)材料刻蝕精度要求較高的領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。
氨氣（NH?）：用氨氣等離子處理，可以使其表面連接上氨基基團(tuán)，能夠顯著改善表面粗糙度、提升潤(rùn)濕性并增加材料表面含氮基團(tuán)數(shù)量，但由于氨氣對(duì)大氣環(huán)境不友好，處理氨氣污氣給大規(guī)模工業(yè)化帶來(lái)了挑戰(zhàn)。
混合氣體：為了達(dá)到更好的清洗和處理效果，實(shí)際應(yīng)用中常使用混合氣體，如氬氫混合氣體，先利用氬氣增強(qiáng)物體表面的結(jié)構(gòu)活化，然后利用氫氣進(jìn)行清洗，提升結(jié)合強(qiáng)度；還有氬氧混合氣體，氬離子進(jìn)行物理轟擊，氧氣進(jìn)行氧化反應(yīng)，兩者結(jié)合可產(chǎn)生更多活性粒子，使清洗效果更佳。
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
133-8039-4543