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NE-UV01紫外臭氧清洗機(jī)

  • 產(chǎn)品型號:NE-UV01
  • 性能特點(diǎn):處理溫和,操作安全
  • 產(chǎn)品用途:材料表面改性,提升親水性
  • 產(chǎn)品介紹
  • 產(chǎn)品參數(shù)
抽屜式UV紫外臭氧清洗機(jī)NE-UV01擁有工業(yè)級別的清洗效率和效果,適用小型基片清洗,如液晶面板,ITO,F(xiàn)TO,光學(xué)玻璃,OLED,LCD,硅片,陶瓷,金屬片,聚合物,硅膠等表面清洗,用于清洗產(chǎn)品的表面有機(jī)物,即進(jìn)行表面改質(zhì),從而獲得較好的親水性。

產(chǎn)品原理:


UV紫外臭氧清洗機(jī)所選用的雙波長紫外(TUV)燈,其實(shí)質(zhì)是低壓汞蒸汽放電燈,它可以發(fā)射短波紫外輻射,波長主要集中在253.7nm,同時還會發(fā)射少量波長為184.9nm的紫外線。這兩種波長的紫外線對應(yīng)的光子能量分別為472kJ/mol和647kJ/mol。一般情況下,紫外線的光子能量接近或者大于有機(jī)物分子的結(jié)合能,因此可以直接切斷絕大多數(shù)分子的結(jié)合。

紫外臭氧清洗機(jī)主要是利用低壓汞燈產(chǎn)生的紫外光與空氣中的氧氣發(fā)生反應(yīng)產(chǎn)生臭氧,臭氧又可以進(jìn)一步與紫外作用產(chǎn)生活性氧自由基,而活性氧自由基可以對材料表面進(jìn)行清潔和改性處理,如提高表面張力,改善聚合物的潤濕性。

具體反應(yīng)為:UV照射材料表面時發(fā)射的短波紫外線會分解O2,形成具有強(qiáng)氧化能力的O3,聚合物表面的有機(jī)物和O3在UV照射下,會分解出一些極易揮發(fā)的氣體(如H2O、CO2等)。

只有UVC段的紫外光與空氣中的氧氣發(fā)生作用時才會產(chǎn)生臭氧。一般波長為185nm的紫外光與空氣中的氧氣發(fā)生作用時產(chǎn)生臭氧的效率最高,臭氧會進(jìn)一步與波長為254nm的紫外光發(fā)生作用產(chǎn)生活性氧自由基。紫外臭氧改性處理是波長為185nm與254nm的紫外光共同作用的結(jié)果。


產(chǎn)品特點(diǎn):


材質(zhì):機(jī)身整體采用不銹鋼材料,耐酸堿、防腐蝕,美觀大方
結(jié)構(gòu):抽屜式樣品臺,取、放基板簡單、方便
氣路:預(yù)留進(jìn)氣接口,豐富設(shè)備的清洗種類
保護(hù):抽屜開合與UV燈工作互鎖,避免紫外線傷害
計時:按鍵定時器,數(shù)顯倒計時,放便直觀
操作:清洗工作進(jìn)程可以任意時間手動終止
配件:可選臭氧中和器,避免臭氧傷害
排風(fēng):自帶臭氧排風(fēng)系統(tǒng),12.5cm 直徑出風(fēng)口,配置風(fēng)管及緊固件。


產(chǎn)品應(yīng)用:


■ 在進(jìn)行薄膜沉積之前先進(jìn)行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。
■ 清洗硅芯片,透鏡,反光鏡,太陽能面板,冷軋鋼,慣性引導(dǎo)零件和 GaAs 芯片
■ 清潔焊劑,混合電路以及平板 LCD 顯示器
■ 增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性
■ 基片終測后墨跡清楚
■ 平板顯示器/液晶顯示器
■ 去除光刻機(jī)臺上的光刻膠殘留物
■ 在電路板封裝和打片之前清洗)
■ 增強(qiáng)表面親水特性


清洗波段 185nm和254nm
距離UV燈3-5mm平均光強(qiáng) 28~32mW/cm²
燈管 雙波低壓汞燈
燈管功率 150W
照射高度 20-100mm,可通過托盤四邊螺母調(diào)節(jié)高度
托盤外型尺寸 250mm(W)×300mm(D)×260mm(H)
外形尺寸 350W*400L*350H (mm)
電源 220V,1.5A,300W

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