110L真空等離子清洗設(shè)備NE-PE110F

產(chǎn)品型號：NE-PE110F
性能特點：高密度射頻等離子發(fā)生器，處理效果均勻
產(chǎn)品用途：陶瓷、玻璃、塑料高分子材料表面活化，提升粘接性親水性

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產(chǎn)品介紹
產(chǎn)品參數(shù)

真空等離子清洗設(shè)備由電器控制及操作系統(tǒng)、真空腔室、供氣系統(tǒng)、13．56MHz射頻電源、真空泵等部分組成。利用等離子體活潑的物理化學(xué)電磁流體特性，可以實現(xiàn)一系列傳統(tǒng)濕法處理所不能實現(xiàn)的反應(yīng)過程和處理效果，具有產(chǎn)生速度快、能量高、無污染、處理對象廣泛、整體成本低、無需干燥處理，占用空間小等特點。

真空等離子清洗設(shè)備產(chǎn)品特點：

♦射頻電源功率選擇為0到600W可調(diào)，頻率選擇為13.56MHz，同時采用電源匹配系統(tǒng)來調(diào)節(jié)負(fù)載阻抗，以保證最佳的等離子密度和可重復(fù)性。
♦電極板主體由不銹鋼材料制成，通過電極接頭可選擇的與電源正極或負(fù)極連通，電極板由兩側(cè)的絕緣塊固定在真空腔體中，整個電極系統(tǒng)可跟據(jù)不同需求選擇電極板的極性與間距，以獲得最合適的等離子體。
♦供氣系統(tǒng)采用高精度流量計來精確調(diào)節(jié)工作氣體的流量，同時采用高穩(wěn)定性的真空泵來實現(xiàn)廢氣的均衡排放。
♦高可靠性和穩(wěn)定性、高效的功率輸出、緊湊的結(jié)構(gòu)設(shè)計、體積小、重量輕、完善的保護(hù)功能等特點。
♦前設(shè)開門，后方開排氣孔、電源線孔，側(cè)面開進(jìn)氣孔，以便于形成動態(tài)循環(huán)、均勻進(jìn)氣提高清洗的效果。
♦兩路獨立的氣路控制便于探索不同氣體配比對清洗效果的影響。
♦真空室材料選用材料為316不銹鋼作為放電腔體，耐腐蝕性能好、耐熱性強、低溫情況下的強度好，沖壓彎曲等熱加工性好，無磁性。

真空等離子清洗設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：

引線鍵合打金線前處理
集成電路打線要求鍵合區(qū)必須無灰塵油污等污染物，并具有良好的潤濕性能，真空等離子清洗設(shè)備清洗后，能有效去除鍵合區(qū)的表面臟污并活化其表面，提高引線鍵合的拉力，改善封裝器件的可靠性和良率。

芯片粘接前處理
芯片與封裝基板是兩種不同性質(zhì)的材料，如果兩種材料表面粘附性能較差，則會導(dǎo)致粘接過程中出現(xiàn)空隙，芯片封裝后容易出現(xiàn)脫落等問題。通過對芯片和基板進(jìn)行等離子清洗，可以極大的改善粘接環(huán)氧樹脂在其表面的流動性，減少芯片與基板的分層，增加產(chǎn)品的穩(wěn)定性和使用壽命。

引線框架表面處理
微電子封裝領(lǐng)域通常采用銅合金材料引線框架的塑封形式，銅的氧化物與一些有機(jī)污染物會影響粘接和鍵合的質(zhì)量，經(jīng)過真空等離子清洗設(shè)備清洗后，可提高引線框架表面活化的效果，成品良率會極大的提高。相較傳統(tǒng)的化學(xué)藥水清洗而言，更加綠色環(huán)保。

其他
陶瓷、玻璃、橡膠、塑料高分子材料的表面活化改性，提高表面潤濕性，和粘接性能
COB、COG、COF、ACF工藝打線、焊接前處理
CCM攝像頭模組、LCD顯示模組清洗

真空等離子清洗設(shè)備是通過等離子所含活性粒子與污染物分子反應(yīng)或利用產(chǎn)生的粒子轟擊被清洗表面，使污染物從被清洗表面分離的清洗方法，需要指出的是通過化學(xué)反應(yīng)或者物理轟擊，也會對被清洗表面改性，提高潤濕性和膜的附著力。

項目	型號規(guī)格	參數(shù)
等離子體發(fā)生器	功率	0-1000W可調(diào)
	頻率	40KHz/13.56MHz
	抗輻射干擾高頻匹配器	自動抗阻匹配，遠(yuǎn)程通信控制
真空反應(yīng)腔室	腔體內(nèi)部尺寸	450450500（寬高深）
	材質(zhì)	不銹鋼/鋁合金
	電極層數(shù)	7層
	腔體容積	100L
	工作托盤	標(biāo)配一套，材質(zhì)可選（鋁絲，鋼絲網(wǎng)）
	電極板分布方式	平板電極，可靈活抽取
控制系統(tǒng)	系統(tǒng)控制	PLC
控制系統(tǒng)	觸摸屏	七寸觸摸屏
氣體系統(tǒng)	氣體通道	標(biāo)配兩路可增加（氧氣、氬氣、氮氣等）
氣體系統(tǒng)	氣體流量控制	MFC氣體質(zhì)量流量計
外觀參數(shù)	外形尺寸	110017501000（寬高深）

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110L真空等離子清洗設(shè)備NE-PE110F

真空等離子清洗設(shè)備產(chǎn)品特點：

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